Russlands 11,2 nm EUV-Lithografie: Ein Wettbewerber für ASML?
2024-12-23
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Russland entwickelt seine eigene EUV-Lithografietechnologie mit einer Wellenlänge von 11,2 nm, um mit der etablierten 13,5-nm-Technologie von ASML zu konkurrieren. Dieses ambitionierte Projekt unter der Leitung von russischen Wissenschaftlern zielt darauf ab, die aktuelle Lithografietechnologie zu übertreffen und die Halbleiterindustrie mit einer höheren Präzision und Effizienz zu versorgen. Mit diesem innovativen Ansatz könnte Russland seine Position in der globalen Halbleiterindustrie stärken und zu einem wichtigen Player in der EUV-Lithografie werden. Schlüsseltechnologien wie künstliche Intelligenz und Nanotechnologie können bei der Entwicklung eingesetzt werden.
